WPA是一种专为清除流程在线、动态监控而设计的分析设备。该设备可对半导体生产流程的清除、转印、去光胶液过程中所使用的各种拒绝十分严苛的溶液浓度展开监测，同时，一台WPA分析仪可监测多达八种有所不同的流路。

　　本文对使用SC1，SC2，DHF，BOE和SPM化学组份的清除流程优化问题展开重点探究。通过案例分析对WPA应用于展开解释。

　　分析技术　　电磁光谱的近红外（NIR）部分介于中外白（MIR）与红外线（VIS）之间。氢原子的基频与合频人组起到是该光谱区构成的主要机理。　　ABBWPA分析仪利用FT-NIR光谱仪的优势，并融合非插手型的TeonClippIR+专利技术对溶液展开动态监测。WPA分析仪利用光纤传导将来自光谱仪的NIR光传输至监测点。

该配备可将分析仪主机加装在任何一般环境中，可与有害物质和环境互为隔绝，因此大大降低了湿法环境因素阻碍。　　使用NIR技术的检测缩主要各不相同意欲监测的化学组份的光谱性能。在液体状态下，可检测物质的浓度可低约100ppm（0.01%），这各不相同化学组份包含。

　　系统解释　　1系统配置　　WPA分析仪将FTIR光谱仪与特氟龙ClippIR+结合可实现非插手式的监测功能。光谱仪还包括一个多分析仪模块，该模块可产生光波，不足以同时照耀八路有所不同的监测点。通过光缆，每个监测点均可在百米之外与分析仪连接。

与机械多路转换仪器比起，该设计具备极高的重复性优点。图2说明了一种系统配置，还包括有五个分析仪和三个腾出空位。　　2采样方法　　ClippIR+专利技术（闻图3）可通过现有的特氟龙管道构建在线、动态监测。

加装方便快捷，且不必须管道横跨黏合新的修建或加装加热设备。每ClippIR+仅有可钩至当前特氟龙管道的外表。

来自光谱仪的NIR光可通过特氟龙管道传输，然后回到至光谱仪的八个检测器的其中一个检测器上。

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